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本研究では、半導体製造における高精度ウェーハアライメントのための新しい渦ビーム干渉法を導入します。この技術は、優れた線形性と繰り返し性を達成し、リソグラフィシステムに有望な代替手段を提供します。
科学分野:
背景:
研究 の 目的:
主な方法:
主要な成果:
10:39Measurement of X-ray Beam Coherence along Multiple Directions Using 2-D Checkerboard Phase Grating
Published on: October 11, 2016
09:45Large-area Scanning Probe Nanolithography Facilitated by Automated Alignment and Its Application to Substrate Fabrication for Cell Culture Studies
Published on: June 12, 2018
結論: