Zhenxin Huang1,2, Zenghui Yang1,2, Aijun Zeng3,4

  • 1Department of Advanced Optical and Microelectronic Equipment, Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 201800, China.

Scientific reports
|December 21, 2025
PubMed
まとめ

新しいアルゴリズムは、液浸リソグラフィ用のマイクロミラーアレイ(MMA)を最適化し、エネルギーバランスと偏光制御を改善して、高度な半導体製造を実現します。これにより、40nm未満のノードのイメージング性能が向上します。