ハイドロキシアパタイトへの塩化セリウム前処理による初期バイオフィルム付着の低減：走査型電子顕微鏡研究

科学分野:

• 生体材料科学; 歯科研究; 微生物学

背景:

• ハイドロキシアパタイト(HA)は、歯硬組織にとって重要である。
• HAへのセリウムの組み込みは、う蝕抵抗性を高める可能性がある。
• 初期バイオフィルム形成に対するセリウムの影響は不明である。

研究 の 目的:

• ハイドロキシアパタイト(HA)ディスクに対する塩化セリウム(III)クロリド(CeCl3)前処理の効果を評価すること。
• その後の3種う蝕バイオフィルムの増殖を評価すること。
• CeCl3の効果を対照群およびクロルヘキシジン(CHX)と比較すること。

主な方法:

• HAディスクを50% CeCl3、超純水（対照）、または0.02% CHXで前処理した。
• サンプルを人工唾液中でペリクル形成に供した。
• Actinomyces naeslundii、Schaalia odontolytica、Streptococcus mutansを用いたバイオフィルムモデルを使用した。
• 走査型電子顕微鏡（SEM）およびエネルギー分散型X線分析（EDX）を用いた。

主要な成果:

• SEMにより、CeCl3処理サンプル上に沈殿物が観察され、酸攻撃の兆候が見られた。; CeCl3処理HAでは、対照群と比較してバイオフィルム形成が有意に阻害された。; EDXによりセリウムの存在が確認され、沈殿物部位で高濃度であった。
• SEMにより、CeCl3処理サンプル上に沈殿物が観察され、酸攻撃の兆候が見られた。; CeCl3処理HAでは、対照群と比較してバイオフィルム形成が有意に阻害された。; EDXによりセリウムの存在が確認され、沈殿物部位で高濃度であった。

結論:

• CeCl3前処理はHA上に表面沈殿物を生成する。
• セリウム処理はHA上の初期う蝕バイオフィルムの発達を阻害するように見える。
• セリウムの抗う蝕可能性を探求するためには、さらなる研究が必要である。