リガンド機能に依存した有機スズカルボキシレートレジストの性能

科学分野:

• 材料科学
• 化学
• ナノテクノロジー

背景:

• 金属含有レジストは、高解像度リソグラフィーに不可欠です。
• 光化学メカニズム、特にリガンド効果の理解は、レジスト開発にとって重要です。

研究 の 目的:

• 深紫外（DUV）レジストとしての新規有機スズカルボキシレートの設計と合成。
• DUVリソグラフィーにおけるリガンド効果と光化学メカニズムの関係の調査。
• 開発されたレジストのリソグラフィー性能とエッチング耐久性の評価。

主な方法:

• 官能基が異なる制御された有機スズカルボキシレートのペアの合成。
• 解像度テスト（90nmハーフピッチ）およびハードマスク層へのパターン転写を含むリソグラフィー評価。
• 光化学反応経路を解明するための分光学的および化学的特性評価。

主要な成果:

• 合成された両方の有機スズカルボキシレートレジストは、90nmのハーフピッチ解像度を達成しました。
• 炭素ベースのハードマスク層へのパターン転写が実証されました。
• オレフィン基を含む2つの競合する光化学反応経路が提案され、リソグラフィー感度と溶解コントラストに影響を与えました。

結論:

• 有機スズカルボキシレートの構造チューニング可能性により、光化学メカニズムの制御が可能になります。
• これらの材料は、高解像度でエッチング耐性のあるDUVレジストとして有望です。
• リガンド設計は、高度なリソグラフィーのレジスト性能を最適化するための重要な要素です。