連続波600 W Yb:Y₂O₃セラミック薄膜ディスクレーザー（炭化ケイ素シンクベース）
Optics express
|February 20, 2026
まとめ
研究者らは、高出力イッテルビウム添加酸化イットリウム（Yb:Y2O3）セラミック薄膜ディスクレーザーを開発しました。このレーザーは600 Wの出力電力を達成し、強力なレーザーアプリケーションにおける炭化ケイ素シンクを備えたYb:Y2O3セラミックの可能性を示しています。
科学分野:
- レーザー物理学
- 材料科学
- セラミックス工学
背景:
- 高出力レーザーは、さまざまな産業および科学的アプリケーションに不可欠です。
- イッテルビウム添加酸化イットリウム（Yb:Y2O3）セラミックは、レーザーゲイン媒体として有望な熱的および光学的特性を提供します。
- 薄膜ディスクレーザーアーキテクチャは、熱管理と高出力達成に効果的です。
主な方法:
- Yb:Y2O3透明セラミックディスクの作製。
- 単結晶炭化ケイ素（SiC）シンクとのセラミックディスクの統合。
- 連続波源による976 nmでのレーザーシステムのポンピング。
- 1031.7 nmでの出力電力と光-光効率の特性評価。
結論:
- Yb:Y2O3セラミックとSiCシンクの統合は、高出力薄膜ディスクレーザー開発のための実行可能なアプローチです。
- 実証された600 Wの出力電力は、要求の厳しいレーザーアプリケーションにおけるこの材料と構成の可能性を強調しています。
- さらなる研究では、さらに高い電力レベルと異なる動作レジームの最適化を探求できます。
