101 W、サブ400 fs Yb:Lu₂O₃薄膜ディスク再生増幅器

科学分野:

• レーザー物理学
• 材料科学

背景:

• 薄膜ディスク再生増幅器は、高出力超高速レーザーシステムに不可欠です。
• Yb:Lu2O3セラミックスは、レーザーアプリケーションに有望な特性を提供します。

研究 の 目的:

• 初のYb:Lu2O3薄膜ディスク再生増幅器の実証。
• 超短パルス幅での高平均出力の達成。

主な方法:

• 薄膜ディスク構成でYb:Lu2O3セラミックゲイン媒質を使用しました。
• 高パルスエネルギーと平均出力を達成するために再生増幅を採用しました。
• サブ400 fsのパルス幅を達成するためにパルス圧縮技術を実装しました。

主要な成果:

• 中心波長1033 nm、パルス幅363 fsのパルスを生成しました。
• 圧縮後の平均出力101 Wを達成しました。
• 繰り返し周波数96.5 kHzで動作しました。
• 高い平均出力（>100 W）と超短パルス幅（<400 fs）の同時実証。

結論:

• Yb:Lu2O3薄膜ディスク再生増幅器は、超高速レーザー技術における重要な進歩を表します。
• このシステムは、薄膜ディスク再生増幅器の以前の性能ベンチマークを上回っています。
• 実証された機能は、高出力、超短レーザーパルスを必要とする産業加工および科学研究に新たな道を開きます。