光学的な静止波を用いたメタステーブルな原子ビームの位置づけ:ハイゼンベルクの限界におけるナノリトグラフィー

Johnson1, Thywissen, Dekker

  • 1Department of Physics, Harvard University, Cambridge, MA 02138, USA.

Science (New York, N.Y.)
|June 11, 1998
PubMed
まとめ

研究者らは,光学的な静止波の中で,超安定アルゴン原子を使用して,シリコンと二酸化シリコンの表面に正確なパターンを作成しました. この量子リトグラフィー技術は,高度なナノ製造のために0.1ミクロン未満の解像度を達成します.