超高密度纳米线阵列在自组装的双块共聚合物模板中生长
T Thurn-Albrecht1, J Schotter, G A Kästle
1Polymer Science and Engineering Department, Physics Department, University of Massachusetts, Amherst, MA 01003, USA.
Science (New York, N.Y.)
|January 11, 2000
概括
我们开发了一种简单的化学方法来创建超高密度的纳米孔阵列. 这种技术可以制造铁磁纳米线,用于先进的数据存储应用.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 化学工程是化学工程的重要组成部分.
背景情况:
- 块共聚合物自组装成有序的纳米结构.
- 控制纳米孔尺寸和密度对于高级应用至关重要.
- 现有的制造方法在密度和可扩展性方面存在局限性.
研究的目的:
- 介绍一种简单,强大的化学路径,用于制造超高密度纳米孔阵列.
- 探索这些纳米孔的使用,以创建高密度纳米线阵列.
- 研究这些结构对于超高密度存储介质的潜力.
主要方法:
- 使用不对称的双块共聚物的平衡自组合形态.
- 通过细分相互作用和分子重量控制阵列尺寸和侧面密度.
- 采用直流电极沉积来制造垂直纳米线阵列.
主要成果:
- 实现了超高密度的纳米孔阵列,具有高面积比.
- 制造的垂直纳米线阵列,其密度超过1.9 x 10(11) 线/cm^2.2.
- 在铁磁纳米线中观察到显著增强的强制性.
结论:
- 双块共聚合物自组装为超高密度纳米孔制造提供了一个实用的途径.
- 铁磁纳米线展示了超高密度存储介质的潜力.
- 描述的共聚合物方法与当前的光刻工艺兼容,并且可用于多层设备.
