Dennis Hausmann1, Jill Becker, Shenglong Wang

  • 1Department of Chemistry and Chemical Biology, Harvard University, 12 Oxford Street, Cambridge, MA 02138, USA.

Science (New York, N.Y.)
|October 12, 2002
PubMed
概括

这项研究引入了一种更快的原子层沉积 (ALD) 方法,用于创建统一的,合规的纳米层. 这种新的工艺显著增加了沉积率,使复杂的微电子和光学设备能够高效地涂层.