块共聚物质在以光刻方式定义的纳米图案基板上进行表轴自组装
Sang Ouk Kim1, Harun H Solak, Mark P Stoykovich
1Department of Chemical Engineering and Center for Nanotechnology, University of Wisconsin, Madison, Wisconsin 53706 USA.
Nature
|July 25, 2003
概括
集成与块共聚合物自组装的先进光刻技术创建无缺陷,大面积的纳米图案. 这种混合纳米制造方法实现了纳米技术应用的分子级控制.
科学领域:
- 纳米技术 纳米技术
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米光刻法 (Nanolithography) 是一种纳米光刻法.
背景情况:
- 块共聚合物自组装成纳米级周期结构,用于制造纳米设备.
- 目前的局限性包括缺陷和在小面积上限制订购,阻碍了先进的应用.
- 像图形表皮术这样的现有方法在实现远程秩序方面取得了有限的成功.
研究的目的:
- 开发一种使用块共聚合物自组装的无缺陷,大面积和注册纳米纹的方法.
- 为了克服传统块共聚合物光刻的固有局限性.
主要方法:
- 用先进的光刻技术整合双块共聚物的薄膜.
- 使用石版定义的表面图案来直接联合聚合物自组装.
- 实现共聚物域的表轴性自我组装.
主要成果:
- 在任意大面积上展示无缺陷,定向和基质注册的纳米模式.
- 图案质量是由光刻模板决定的,而不是自组装的限制.
- 成功制造精确控制的纳米结构.
结论:
- 混合纳米制造策略结合了光刻和自组装,使得分子水平的控制成为可能.
- 这种方法克服了以前的局限性,为先进的纳米技术制造铺平了道路.
- 能够为各种应用提供高质量的纳米结构的可扩展生产.
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