Dunwei Wang1, Ying-Lan Chang, Qian Wang
1Contribution from the Department of Chemistry, Stanford University, Stanford, CA 94305, USA.
表面化学显著影响纳米线 (GeNW) 晶体管. 使用HfO2通过化或被动化去除表面氧化物,可以消除歇斯底里,提高设备性能.
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