您也可能阅读
通过共同作者、期刊和引用图与本文相关的文章。
Lidong Qin1, Sungho Park, Ling Huang
1Department of Chemistry and Institute for Nanotechnology, Northwestern University, 2145 Sheridan Road, Evanston, IL 60208-3113, USA.
我们开发了一种高通量方法,用于在纳米线上制造纳米级结构. 这种线上光刻技术能够精确地创建磁盘阵列和间隙,用于研究电子特性.
科学领域:
背景情况:
研究的目的:
主要方法:
主要成果:
结论: