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Jessica L Defreese1, Son-Jong Hwang, A Nicholas G Parra-Vasquez

  • 1Department of Chemical Engineering, University of California, Berkeley, Berkeley, California 94720-1462, USA.

概括

在包括散装和表面类型在内的二氧化材料中的分子限制使用NMR光谱学进行了研究. 大量二氧化严重限制了分子的移动性,类似于在较低温度下表面的限制.