通过等离子体辅助的原子层沉积,自我组装的半孔的纳米厚的合体孔密封

Ying-Bing Jiang1, Nanguo Liu, Henry Gerung

  • 1Department of Chemical and Nuclear Engineering, University of New Mexico, Albuquerque, New Mexico 87131, USA.

概括

等离子体辅助原子层沉积 (ALD) 限制了表面反应,防止孔隙透. 这种技术可以对先进的材料和薄膜进行精确的表面修饰和孔径缩小.