氧化黄金作为超薄蚀刻电阻,用于微接触式印刷
Ruben B A Sharpe1, Dirk Burdinski, Jurriaan Huskens
1MESA+ Institute for Nanotechnology, Molecular Nanofabrication, and Solid State Physics, University of Twente, 7500 AE Enschede, The Netherlands.
Journal of the American Chemical Society
|December 7, 2006
概括
用氧等离子体处理的黄金表面可以创建临时的蚀刻口罩. 微接触式打印减少剂局部降解屏障特性,使控制蚀刻无污染.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 表面化学 表面化学
- 纳米制造的纳米制造
背景情况:
- 传统的蚀刻口罩可以引入污染物.
- 对于特定的微型制造工艺,临时蚀刻屏障是可取的.
- 黄金表面为表面修饰提供独特的特性.
研究的目的:
- 开发一种新的,使用氧气等离子体处理黄金的临时蚀刻口罩.
- 研究基于静电排斥的蚀刻阻力机制.
- 展示一种控制,局部降解蚀刻面具的方法.
主要方法:
- 氧气等离子处理黄金表面.
- 对抗蚀刻性能的表征.
- 在经过处理的黄金表面上微接触打印减少剂.
- 对障碍物质恶化的评估.
主要成果:
- 氧气等离子处理使黄金表面成为有效的蚀刻口罩.
- 耐蚀性归因于静电排斥效应.
- 微接触打印减少剂局部和可控地降解了面具.
- 临时的蚀刻屏障不会引入任何污染物种.
结论:
- 氧气等离子体处理的黄金作为一个临时的,非污染的蚀刻面具.
- 通过微接触打印进行局部降解,可以精确控制蚀刻.
- 这种方法为先进的纳米制造技术提供了一个有前途的方法.


