在100nm以下,通过纳米光 lithography 支持的双层的图案设计
Jinjun Shi1, Jixin Chen, Paul S Cremer
1Department of Chemistry, Texas A&M University, P.O. Box 30012, College Station, Texas 77843-3012, USA.
Journal of the American Chemical Society
|February 9, 2008
概括
研究人员使用AFM nanoshaving创建了狭窄支的脂双层 (SLBs). 通过粘附和边缘能量决定的最低宽度为55nm,可以实现稳定的SLB.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 生物物理学的生物物理.
背景情况:
- 支持的脂双层 (SLBs) 对仿生表面至关重要.
- 在纳米尺度上对SLB进行模式化对于先进的应用是必不可少的.
- 现有的方法往往缺乏对SLB尺寸的精确控制.
研究的目的:
- 开发一种制造亚-100纳米宽支持脂双层的方法.
- 为了确定由囊泡融合产生的SLB的最小稳定宽度.
- 调查限制SLB宽度的能量因素.
主要方法:
- 基于利用的原子力显微镜 (AFM) 的纳米光 lithography.
- 在酸基板上的牛血清白蛋白 (BSA) 单层.
- 通过囊泡融合,在BSA空的条带内形成了SLB线条.
主要成果:
- 实现了宽度低至15nm的SLB的受控模式.
- 确定了稳定的SLBs的下一个大小极限约为55nm.
- 确定了双层粘附和边缘能量之间的平衡作为限制因素.
结论:
- 通过AFM的纳米切割,可以精确制造纳米级的SLB.
- SLB的稳定性是由粘附和边缘能量之间的权衡决定的.
- 这种技术为生物界面创建定义的纳米结构提供了一条途径.
