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高性能解决方案加工的氧化薄膜晶体管.

Hyun Sung Kim1, Paul D Byrne, Antonio Facchetti

  • 1Department of Chemistry and Materials Research Center, Northwestern University, 2145 Sheridan Road, Evanston, Illinois 60208, USA.

Journal of the American Chemical Society
|September 2, 2008
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此摘要是机器生成的。

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高性能氧化物 (In2O3) 薄膜晶体管 (TFT) 使用旋转涂层方法开发. 这些In2O3 TFT表现出高电子流动性和低工作电压,使其适用于先进的电子应用.

科学领域:

  • 材料科学 材料科学 材料科学
  • 凝聚物质物理学 凝聚物质物理学
  • 纳米技术纳米技术

背景情况:

  • 氧化 (In2O3) 是用于薄膜晶体管 (TFT) 的一个有前途的n型半导体.
  • 在In2O3 TFT中实现高电子流动性和低工作电压对于高速电子应用至关重要.
  • 控制薄膜微观结构和方向是优化半导体设备性能的关键.

研究的目的:

  • 在各种介电层上制造In2O3薄膜晶体管 (TFT).
  • 为了研究前体溶液组成对In2O3膜微观结构和设备性能的影响.
  • 为了实现基于In2O3的TFT的高电子流动性和高效运行.

主要方法:

  • 使用前体溶液的旋转涂层制造In2O3薄膜晶体管 (TFT).
  • 前体溶液包括甲氧乙醇中的化 (InCl3) 和乙醇胺 (EAA).
  • 利用各种介电材料,包括二氧化 (SiO2) 和自组装纳米介电材料 (SAND).

主要成果:

  • 优化的In2O3薄膜微结构,具有高流动性的In2O3 00 L方向,在特定的基础范围内实现:In3+摩尔比率范围.
  • 在n+-Si/SAND/In2O3/Au装置中测量了高达大约44cm2V(-1) s(-1) 的电子流动性.

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  • 设备显示了高开/关电流比 (Ion/Ioff) 约为10~6) 和工作电压低于5V.
  • 结论:

    • 具有优化的前体比率的旋转涂层方法使得高性能In2O3 TFTs的制造成为可能.
    • 实现的电子移动性和低工作电压对于高速电子应用非常令人鼓舞.
    • 自组装纳米电介质 (SAND) 为高性能In2O3 TFTs提供了合适的平台.