扫描道显微镜,光谱和纳米石墨烯的扫描道显微镜,光谱和纳米石墨烯的化学修饰与aryl部分化学修饰

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 表面化学 表面化学
• 纳米技术纳米技术

背景情况:

• 减少盐是一种拟议的石墨烯表面修改方法.
• 之前的研究提供了间接证据,证明了基部分与石墨烯的附着.
• 缺乏对由此产生的附加层的排序和形状的直接分子特征.

研究的目的:

• 在石墨烯上进行4 - 尼托芬二降解形成的附加层的分子分辨率表征.
• 为了研究共改性石墨烯表面的分子排序和构造.
• 探索使用STM操纵纳米尺度图案的潜力.

主要方法:

• 使用超高真空 (UHV) 扫描道显微镜 (STM) 和光谱 (STS).
• 研究了4 - 尼托芬二四二酸在SiC(0001) 上的表轴石墨烯上的自发还原.
• 在特征化之前,在UHV中在~500°C时化化学处理的表面.

主要成果:

• 观察到一个原子平面,不均的附加层的协同结合的有机分子在回火后.
• 根据STM和STS数据,附加层主要由类寡合物组成.
• 这些寡合物阻碍了统一的石墨烯表面修饰.
• 在特定偏差和当前值时,通过STM尖端实现了被吸附物种的选择性脱吸.

结论:

• 在石墨烯上减少4 - 尼托芬二会产生一个寡合物附加层,而不是完全覆盖表面.
• 这种寡合结构影响了石墨烯修饰的统一性.
• 可以使用STM尖端去吸收分子,使得在5nm以下的尺度上制造石墨烯纳米模式.