界面分离甲基改性聚合物用于高保真度块共聚合物纳米印记光刻法
Vincent S D Voet1, Teresa E Pick, Sang-Min Park
1The Molecular Foundry, Lawrence Berkeley National Laboratory, One Cyclotron Road, Berkeley, California 94720, USA.
Journal of the American Chemical Society
|February 17, 2011
概括
研究人员开发了添加剂,以减少块共聚合物 (BCP) 光刻的粘附性,使得无缺陷的纳米打印高密度纳米尺度的特征制造.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 聚合物化学 聚合物化学
背景情况:
- 块共聚合物 (BCP) 光刻法使高密度纳米尺度特征制造成为可能.
- 纳米印记 lithography 提供了使用可重复使用的模具进行图案转移的高通量方法.
- 在BCP和纳米印记模具之间的高度粘附阻碍了无缺陷的图案形成.
研究的目的:
- 合成添加剂,减轻模具-聚合物粘附在BCP光刻过程中.
- 改进无缺陷的纳米印记工艺,用于高通量纳米制造.
主要方法:
- 用醇基链合成基于PS和PDMS的添加剂.
- 混合添加剂与PS-b-PDMS BCPs. 混合添加剂与PS-b-PDMS BCPs. 混合添加剂与PS-b-PDMS BCPs.
- 热纳米印记光刻和随后的光刻分析.
主要成果:
- 醇基改性PS添加剂显著降低了薄膜对纳米印记模具的附着性.
- 通过修改后的BCP,几乎可以实现无缺陷的纳米印记.
- 证明了10nm以下BCP微域的优异的图形表皮轴对齐.
结论:
- 添加剂有效地降低了BCP纳米印迹光刻中的粘附.
- 这种方法可以为先进的纳米制造提供无缺陷的图案.
- 该方法对于具有成本效益,高吞吐量生产纳米尺寸特征至关重要.
