在黄金上形成高质量的自组装单层联二醇:基本问题
Hennie Valkenier1, Everardus H Huisman, Paul A van Hal
1Stratingh Institute for Chemistry, University of Groningen, Nijenborgh 4, 9747 AG Groningen, The Netherlands.
Journal of the American Chemical Society
|March 10, 2011
概括
从结合的分子中确定了形成高质量的自组装单层 (SAM) 的最佳条件. 在THF中的三乙烯胺 (Et3N) 产生了密集的SAM,这对于分子电子设备至关重要,与四甲基氧化 (Bu4NOH) 不同.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 有机电子 有机电子
背景情况:
- 自组装单层 (SAM) 对分子电子 (ME) 设备至关重要.
- 寡烯乙烯 (OPEs) 是 ME 应用的有希望的结合分子.
- 控制SAM形成对于设备性能至关重要.
研究的目的:
- 系统地研究从OPE的乙保护型二醇中形成SAM的过程.
- 为了确定高质量的SAM在黄金上的最佳降低保护条件.
- 评估不同基础对SAM结构和ME设备性能的影响.
主要方法:
- 使用不同基 (三乙烯胺 (Et3N) 和四甲基氧化物 (Bu4NOH)) 的溶液中以乙保护的OPE二甲醇的脱保护反应的监测.
- 在黄金表面上描述得到的SAM质量.
- 制造大面积分子连接,以评估设备性能.
主要成果:
- 在四基 (THF) 中以9-15%的Et3N实现最佳的SAM形成,产生密集,高质量的单层.
- Bu4NOH导致SAM的密度降低,并结合了Bu4N物种.
- 溶液中 (二) 硫酸盐的平衡度显著影响SAM质量.
- 分子连接处的电流密度强烈取决于SAM形成时使用的基.
- 对于与Et3N.形成的不同长度的OPE,确定了0.15 Å(-1的指数衰变因子 (β).
结论:
- 对于ME设备,Et3N是形成高质量的OPE SAMs的首选基础.
- SAM质量和ME设备性能对降低保护条件和基地选择都很敏感.
- 了解溶液相平衡是控制SAM形成和设备特征的关键.
