超薄聚合物薄膜的化学图案由直接写多光子光刻法直接写多光子光刻法
Hojeong Jeon1, Ray Schmidt, Jeremy E Barton
1Laser Thermal Laboratory, Department of Mechanical Engineering, University of California, Berkeley, California 94720, USA.
Journal of the American Chemical Society
|April 2, 2011
概括
研究人员使用2光子激光切除技术在聚合物薄膜中创建纳米级化学图案. 这种技术精确地暴露了底层基板,使得在不损坏基板的情况下创建子衍射极限特征.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 聚合物化学 聚合物化学
背景情况:
- 创建纳米级化学模式对于先进的材料和设备至关重要.
- 现有的方法通常在分辨率或基板兼容性方面面临限制.
研究的目的:
- 为纳米级化学模式开发一个亚衍射极限方法.
- 在环境条件下,在超薄聚合物薄膜中展示精确的图案生成.
主要方法:
- 采用2光子激光切除法,使用5秒激光.
- 准备的聚乙烯甘) 甲基烯酸刷层在石英基板上.
- 杆非线性2光子吸收率用于选择性聚合物剥离.
主要成果:
- 实现了纳米级化学模式,特征大小接近80纳米.
- 证明了低于衍射极限的聚合物薄膜的选择性剥离.
- 证实聚合物剥离发生而没有损坏底层石英基质.
结论:
- 2光子激光切除是一种有效的技术,用于亚衍射纳米级化学图案.
- 该方法允许创建化学上不同的和可修改的特征.
- 这种方法为在聚合物薄膜中制造纳米结构提供了精确的控制.
