γ-Al2O3

Peter J Chupas1, Karena W Chapman, Gregory J Halder

  • 1X-ray Science Division, Advanced Photon Source, Argonne National Laboratory, Argonne, Illinois 60439, USA. chupas@aps.anl.gov

概括

研究人员使用对分布函数分析来详细描述纳米级玛-表面上的催化位点. 他们发现了五坐标的易斯酸位点与单甲基胺结合,这对于理解各种应用中的表面相互作用至关重要.