具有空气壁的低k周期性半孔有机:POSS-PMO
Makoto Seino1, Wendong Wang, Jennifer E Lofgreen
1Kaneka Corporation, 5-1-1, Torikai-nishi, Settsu, Osaka, Japan 566-0072.
Journal of the American Chemical Society
|October 28, 2011
概括
我们开发了一种新的混合薄膜,使用多面性寡合性丝素 (POSS) 和周期性半孔性有机 (PMO). 这种新的POSS-PMO材料具有显著增强的孔隙性和较低的介电常数.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 化学 化学 化学
背景情况:
- 周期性半孔有机 (PMO) 材料为各种应用提供可调节的多孔性.
- 多面体寡合性丝素 (POSS) 是具有独特性质的纳米级构建块.
- 将POSS集成到PMO结构中可以创建具有增强特性的新型混合材料.
研究的目的:
- 在PMO的孔壁内合成混合薄膜,将POSS纳入POSS.
- 研究POSS集成对PMO薄膜的孔隙性和介电性质的影响.
- 为潜在的微电子应用创造一种低压电常数材料.
主要方法:
- 模板导向,蒸发诱导的自组装旋转涂层用于片制备.
- 合成涉及创建周期性中孔性有机,集成多面性寡合性丝二氧化气囊.
- 描述侧重于孔径测量和介电常数的确定.
主要成果:
- 一种混合POSS-PMO薄膜成功地准备好了.
- 与参考POSS片相比,POSS-PMO片的孔隙性增加了10倍.
- 在POSS-PMO膜中加入约1.5纳米的孔隙导致介电常数从2.03降至1.73显著降低.
结论:
- 开发的POSS-PMO混合薄膜表现出显著增强的多孔性.
- 增加的多孔度与降低的介电常数直接相关,使其适用于低k应用.
- 这种材料代表了下一代微电子设备的有希望的进步,这些设备需要低介电材料.
