对FPCB用18微米线距距的光刻工艺进行调查
Ke Sun1, Gai Wu1,2, Kang Liang1,2
1The Institute of Technological Sciences, Wuhan University, Wuhan 430072, China.
Micromachines
|May 27, 2023
概括
光刻光学模拟准确地预测了灵活印刷电路板 (FPCB) 的光电阻特征. 优化事件光强度和空气间隙可以提高FPCB制造质量.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学工程是指光学工程.
- 制造业 制造技术 制造技术
背景情况:
- 灵活的印刷电路板 (FPCB) 在各种行业中越来越多地被使用.
- 紫外线 (UV) 光刻法的进步需要精确的制造模拟.
- 精确的模拟光学过程对于FPCB质量至关重要.
研究的目的:
- 为了研究具有18微米线距的FPCB的光成像曝光过程.
- 使用光强度分布计算来预测光电阻特征.
- 分析关键参数对配置文件质量的影响.
主要方法:
- 使用有限差异时间域 (FDTD) 方法来计算光强度分布.
- 模拟了光电阻发展过程.
- 多种参数包括落灯强度,空气间隙和媒体类型.
- 与实验FPCB样本对比验证的模拟结果.
主要成果:
- 较高的入射光强度和较小的空气间隙导致更大的光电阻配置文件.
- 作为浸泡介质的水产生了优越的光电阻特征质量.
- 模拟模型准确地预测了已开发的光电阻介质.
结论:
- 光成像模拟是优化FPCB制造的可靠工具.
- 对落灯强度,空气间隙和浸泡介质的控制对于实现所需的光电阻特征至关重要.
- 通过使用模拟指导的参数,成功制造了18微米线距FPCB.
