通过脉冲激光沉积技术制造的TiO2-SiO2纳米复合材料薄膜的光学和结构分析
Laid Kadri1, Abdelkader Abderrahmane2,3, Georgiana Bulai4
1Department of Sciences and Technology, Faculty of Sciences and Technology, University Ahmed Draia of Adrar, Adrar 01000, Algeria.
Nanomaterials (Basel, Switzerland)
|May 27, 2023
概括
使用脉冲激光沉积制造二氧化-二氧化 (TiO2-SiO2) 纳米复合材料薄膜. 这些无形膜显示可调节的光学带间隙和增加的光传输,使它们成为矿太阳能电池的前景.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 薄膜沉积的情况
背景情况:
- 二氧化-二氧化 (TiO2-SiO2) 纳米复合材料具有独特的特性.
- 薄膜对于先进的电子和光电子设备至关重要.
- 脉冲激光沉积 (PLD) 是一种用于薄膜制造的多功能技术.
研究的目的:
- 制造和表征无形TiO2-SiO2纳米复合材料薄膜.
- 为了研究沉积温度对薄膜特性的影响.
- 评估这些薄膜对于矿太阳能电池应用的适用性.
主要方法:
- 制造TiO2-SiO2纳米复合材料的磁盘目标.
- 使用脉冲激光沉积 (PLD) 沉积100纳米薄膜.
- 微观结构,形态和光学属性的表征.
主要成果:
- 无形和同质的TiO2-SiO2薄膜成功沉积.
- 间接光学带间隙在2.92~3.07 eV之间;直接带间隙在3.50~3.55 eV之间.
- 较低的沉积温度增强了可见光和紫外线光的传输.
结论:
- 无形TiO2-SiO2薄膜可以通过PLD制造.
- 薄膜的特性可以根据沉积温度调整.
- 增强的光学特性使得这些薄膜适用于柔性矿太阳能电池.
