通过微薄的WSi2薄膜的差异沉积获得的亚纳米图形误差的X射线镜
Patrice Bras1, Christian Morawe1, Sylvain Labouré1
1X-ray Optics Group, ESRF - The European Synchrotron, 71 Avenue des Martyrs, 38043 Grenoble, France.
Journal of synchrotron radiation
|May 31, 2023
概括
使用直流磁铁子喷射的差分沉积纠正了同步子束线的X射线镜像错误. 二氧化硫 (WSi2) 证明是有效的,减少了20倍的表面误差,达到0.2 nm RMS.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光学是什么?光学是什么?光学是什么?
- 表面工程是什么?表面工程是什么?
背景情况:
- 射线镜对于低发射同步子束线至关重要.
- 镜子中的图形错误会降低光束质量.
- 精确的镜面对于先进的科学应用是必不可少的.
研究的目的:
- 应用差分沉积来纠正X射线镜中的图形错误.
- 为了评估二氧化 (WSi2) 作为沉积材料.
- 评估升级中等质量的基板的可行性,以便在同步电路中使用.
主要方法:
- 用于差异沉积的DC磁力喷射被使用.
- 镜子相对于一个光圈与计算的速度形状移动相对.
- 在沉积之前和之后,使用长轨迹造型仪和Fizeau干扰仪测量了表面图.
主要成果:
- 二氧化 (WSi2) 保持了基板粗性,并保持了可接受的薄膜应力.
- 300毫米平面Si镜的平均高度误差减少了20的因子.
- 获得的最终表面误差为0.2nm的平方根平均值 (RMS).
结论:
- WSi2 是一种适用于差分沉积的材料.
- 差分沉积有效地纠正了X射线镜像图形错误.
- 这种技术可以升级负担得起的基板,以满足同步光束线标准.
