创建一个M × N 点阵列与双周期混合Dammann格制造使用无面膜投影光刻法

科学领域:

• 光学和光子学 在光学和光子学.
• 衍射光学是不同的光学.
• 纳米制造的纳米制造

背景情况:

• 达曼格 (Dammann gratings,简称DGs) 在形测量中对激光束分裂至关重要.
• 传统的二进制相总局面临效率,统一性和制造大视野 (FOV) 的局限性.

研究的目的:

• 引入一种新的混合达曼格 (DG) 架构,用于生成密集,均的激光点阵列.
• 在效率,统一性和制造复杂性方面克服传统总局的局限性.

主要方法:

• 设计和制造了一台双周期混合DG,其格周期比率约为1/8.
• 利用无面具投影光刻法制造光电阻图案,其最小特征大小为~1.2μm.

主要成果:

• 成功生成了一个密集的7^2 × 7^2衍射点阵列,具有17° × 17°的FOV.
• 在波长为532nm的波长下,实现了高效率 (>60%) 和低不均性 (<18%).
• 证明了大规模低成本生产的可行性.

结论:

• 拟议的双期混合GD提供了一个非复杂的结构设计,用于高效和统一的点阵阵列生成.
• 这项技术在深度感知方面具有潜在的应用,包括面部解锁和运动传感.