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Updated: Jul 25, 2025
11:19
Oral Biofilm Formation on Different Materials for Dental Implants
Published on: June 24, 2018
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通过原子层沉积对牙植入物进行土表面修饰的体外研究
Tatsuhide Hayashi1, Masaki Asakura1, Shin Koie2
1Department of Dental Materials Science, Aichi Gakuin University School of Dentistry, 1-00 Kusumoto-cho, Chikusa-ku, Nagoya 464-8650, Japan.
International journal of molecular sciences
|June 28, 2023
概括
原子层沉积 (ALD) 增强的体牙科植入物. 二氧化 (TiO2) 涂层在石上显示出老鼠纤维细胞和骨质细胞的优异细胞增殖,这表明了牙科应用的有希望的新表面修饰技术.
科学领域:
- 生物材料科学 生物材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 牙科植入物学 牙科植入物学
背景情况:
- 是牙科植入物的领先材料,因为它的生物相容性和机械性能.
- 然而,优化的表面特性以增强骨整合和细胞反应仍然是一个挑战.
- 原子层沉积 (ALD) 为表面修饰提供了对薄膜沉积的精确控制.
研究的目的:
- 为了研究ALD的有效性,用各种金属氧化物 (TiO2,Al2O3,SiO2,ZnO) 涂覆圆盘.
- 评估这些ALD涂层对小鼠纤维细胞 (L929) 和骨质细胞 (MC3T3-E1) 的增殖和形态学的影响.
- 评估涂层氧化表面的物理和化学特性,包括薄膜厚度,粘附度,接触角度和元素化.
主要方法:
- 用ALD.制造并涂上二氧化 (TiO2),氧化 (Al2O3),二氧化 (SiO2) 和氧化 (ZnO) 薄膜的磁盘.
- 描述包括薄膜厚度,元素分布,接触角度测量和粘合强度测试.
- 在第1,3,5天 (L929) 和第1,4,7天 (MC3T3-E1) 评估了L929和MC3T3-E1细胞的细胞增殖和形态.
- 在两周内测量了元素化.
主要成果:
- ALD涂层 (TiO2,Al2O3,SiO2,ZnO) 已成功地应用于有控制厚度和良好的粘合力的.
- 与未涂层的氧化物 (TiO2) 涂层的氧化物 (ZR-Ti) 相比,L929和MC3T3-E1细胞的增殖显著增加,与未涂层的氧化物和其他涂层相比.
- 接触角度分析显示了显著的差异,ZR-Si显示了最低的角度.
- 和的化低于检测极限,而Si和Zn的化最小.
结论:
- ALD是一种可行的技术,用于修改土牙植入物的表面.
- 通过ALD进行TiO2涂层显著促进骨质母细胞和纤维母细胞的增殖,表明改善骨质整合的潜力.
- 基于ALD的TiO2表面修饰代表了石牙植入技术的有希望的进步.
