在MgO{113}{113}{113}{113}{113}{113}{113}}上生长的高指数环氧铁片
Wenzhi Peng1, Yulong Chen1, Xuhao Yu1
1Hefei National Research Center for Physical Sciences at the Microscale, University of Science and Technology of China, Hefei 230026, China.
Materials (Basel, Switzerland)
|June 28, 2023
概括
高指数铁 (Fe) 薄膜在氧化物 (MgO) 基板上使用喷涂进行表生长. 这项研究促进了对具有显著格子不匹配的材料上表轴膜生长的理解.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 固态物理 固态物理
- 薄膜技术 薄膜技术
背景情况:
- 过渡金属在氧化物上的经轴生长对于先进的电子设备至关重要.
- 在具有大格子不匹配的基板上实现表轴生长具有重大挑战.
研究的目的:
- 调查高指数铁 (Fe) 薄膜在氧化 (MgO) 基板上的表生长的可行性.
- 描述成长的Fe膜的晶体学方向和内平面对齐.
主要方法:
- 连续电流 (DC) 磁铁子喷射用于薄膜沉积.
- 采用X射线衍射 (XRD) 分析来确定Fe膜的晶体结构和方向.
主要成果:
- 尽管有很大的晶格不匹配,但在MgO{113}基板上Fe膜的成功表轴生长得到了实现.
- X射线衍射证实了Fe103的平面外方向.
- 在平面内对齐显示了Fe[010]方向与MgO[11 ̄0]方向平行.
结论:
- 在MgO{113}基板上通过直流磁喷射可以生长高指数的表轴性Fe薄膜.
- 这项研究提供了关于克服与实质性格子不匹配的表轴生长挑战的见解.
- 这项工作有助于对薄膜生长机制的基本理解.
