在GaN中对脱位动态的实验研究.
Eugene B Yakimov1, Yury O Kulanchikov1, Pavel S Vergeles1
1Institute of Microelectronics Technology RAS, Chernogolovka 142432, Russia.
Micromachines
|June 28, 2023
概括
失位在室温化 (GaN) 中很容易移动,受到内在特性和外部障碍的影响. 电子束辐射显著降低了脱位滑行所需的能量.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 固态物理 固态物理
- 半导体研究 半导体研究
背景情况:
- 化 (GaN) 是用于光电子和高功率应用的关键半导体材料.
- 了解脱位动态对于改善GaN设备性能和可靠性至关重要.
- 通过HVPE,MOCVD和ELOG方法种植的现有GaN层表现出不同的位移密度.
研究的目的:
- 在室温下研究GaN层中脱位的动态.
- 分析热和电子束辐射对脱位行为的影响.
- 阐明在GaN中调节脱位滑动的机制.
主要方法:
- 电子束诱导电流 (EBIC) 显微镜.
- 阴极光发光 (CL) 光谱学.
- 入和划痕技术,以引入脱位.
主要成果:
- 在GaN中脱位滑动的皮尔尔斯屏障低于1 eV,使室温可移动.
- 脱位移动性由内在的特性和局部障碍物,包括线程脱位,来决定.
- 电子束辐射极大降低了激活能量,使失位滑行到几十个meV.
结论:
- 在GaN中脱位运动是一个复杂的过程,涉及Peierls屏障的克服和与局部障碍物的相互作用.
- 线程位移是基本平面位移滑动的重要障碍.
- 电子束辐射促进脱位运动,主要是通过克服局部障碍来实现.


