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Xiang Wu1,2,3, Bin Fan1,2,3, Qiang Xin1,2,3
1National Key Laboratory of Optical Field Manipulation Science and Technology, Chinese Academy of Sciences, Chengdu 610209, China.
这项研究引入了一种用于石英子镜的新型等离子体图形校正方法,该方法将并行材料去除与油墨掩饰相结合. 这种技术显著减少了光学元件的图形错误,为制造提供了更快,更可扩展的解决方案.
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