在全场和全芯片级别使用有效的多目标反光刻技术,采用混合动态优先级算法

科学领域:

• 半导体制造业 半导体制造业
• 光学石版印刷是一种光学石版印刷.
• 计算机成像成像技术

背景情况:

• 目前的逆光刻技术 (ILT) 通常使用单对象优化,导致由于不同的系统误差,在不同场点的性能低于最佳.
• 现有的多目标优化算法 (MOA) 与不完整的目标优先级作斗争,导致过度或不足的优化.
• 高性能成像,具有真实性和均性,对于先进的光刻画,特别是极端紫外线光刻画 (EUVL) 来说至关重要.

研究的目的:

• 开发一种新的多目标ILT方法,能够在整个材料上实现高性能成像.
• 解决当前MOA在处理多个成像目标的复杂优先级方面的局限性.
• 为先进的ILT应用引入和验证混合动态优先级 (HDP) 算法.

主要方法:

• 研究并开发了一个多目标的ILT框架,其中包含了混合动态优先级 (HDP) 算法.
• 设计了一个混合标准,以实现平衡的目标完成和优先级.
• 将HDP算法应用于多场波面错误感知源面膜优化 (SMO) 和多剪辑源优化 (SO) 问题.

主要成果:

• 在多场和多片段区域实现高保真度和高均度的图像.
• 与当前的MOA相比,HDP算法在全场点的图像统一性提高了高达31.1%,而在波面错误感知SMO中,HDP算法提高了图像统一性.
• 在多片段源优化中展示了HDP算法的通用性和卓越性能.

结论:

• 开发的HDP算法有效地解决了多目标ILT的挑战,通过实现对成像目标的平衡优先级.
• HDP显著提高了在各种 lithography 条件下的成像均性和保真性,优于现有的 MOA.
• HDP算法是多目标ILT优化的更合格的方法,为改进的半导体制造工艺铺平了道路.