超低介电常数原子层的无形碳化物拓地来自MXene

Haiyang Wang1, Zhiguo Du1, Zongju Cheng1

  • 1School of Materials Science and Engineering, Beihang University, Beijing, 100191, China.

概括

新型无形碳化物 (a-CN) 薄膜为先进的集成电路提供超低介电常数. 这种突破性的材料显著降低了寄生电容,并改善了电子设备的响应延迟.