GaN

K Loeto1, G Kusch1, S Ghosh1

  • 1Department of Materials Science and Metallurgy, University of Cambridge, CB3 0FS Cambridge, United Kingdom.

Micron (Oxford, England : 1993)
|June 29, 2023
PubMed
概括

本研究介绍了一种阴极光发射 (CL) 技术,用于量化化 (GaN) 缓冲结构中的碳兴奋剂. 该方法使用蓝色发光精确测量碳度,为二次离子质谱 (SIMS) 提供了替代方案.