全介电结构色像素的孔径控制制造

科学领域:

• 光学和光子学 在光学和光子学.
• 材料科学 材料科学 材料科学
• 纳米技术纳米技术

背景情况:

• 传统的色彩过器是重的,不适合紧的色彩图像.
• 干扰颜色虽然已知,但缺乏适用于微尺度应用的可扩展制造方法.

研究的目的:

• 开发一种简单,可扩展的方法来创建微观结构色像素.
• 为了使使用干扰原理制造紧,充满活力的彩色显示器.

主要方法:

• 在完全介电基板上使用单面膜紫外线光电成像工艺.
• 采用孔径控制的二氧化在空洞内物理沉积,以创建薄膜堆.
• 设计了薄膜堆的底层厚度,以控制反射光的构造干扰.

主要成果:

• 成功创建了微米尺度像素,根据受控的薄膜干扰显示预定义的颜色.
• 展示了将这些像素结合起来,产生充满活力,可见的彩色图像的能力.
• 实现了一个完全CMOS兼容的晶圆尺度制造工艺.

结论:

• 开发的基于干扰的方法为结构色像素制造提供了可扩展和具有成本效益的解决方案.
• 这项技术克服了传统色彩过器的局限性,实现了紧而充满活力的结构色彩显示器.
• 这种CMOS兼容的工艺为结构色彩的大规模商业应用开辟了道路.