低侧叶天线的平面近场测量
Michael H Francis1, Allen C Newell1, Kenneth R Grimm2
1National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD 20899-0001.
概括
平面近场测量技术准确地测量了非常低的侧叶天线,直至-60dB. 探测器-天线相互作用是限制这些先进天线的测量精度的一个关键因素.
科学领域:
- 电磁学 电磁学 电磁学 电磁学
- 天线理论天线理论
背景情况:
- 对于微波天线,平面近场 (PNF) 测量已经确立.
- 低侧叶天线的进步需要在极端水平上验证PNF准确性.
研究的目的:
- 评估非常低侧叶天线的平面近场测量技术的准确性.
- 为了量化侧叶水平的测量精度,降低至-60 dB.
主要方法:
- 使用开放式波导探头和专门的零场探头进行PNF测量.
- 应用标准PNF方法与探针校正.
- 在NIST PNF设施的已知低侧槽波导阵列上进行测量.
主要成果:
- PNF测量精确地确定了非常低的侧叶天线的侧叶,低至-55dB至-60dB.
- 一个零场探头减少了一些不确定性,但增加了探头-天线相互作用的不确定性.
- 探测器-天线相互作用被确定为测量精度的重要限制因素.
结论:
- 平面近场技术适用于准确测量非常低的侧叶天线.
- 尽量减少探头-天线相互作用对于在低侧叶天线的PNF测量中实现更高的准确性至关重要.


