使用中子深度分析技术测量纳米级薄膜厚度
Liang Zhao1, Caijin Xiao1, Yonggang Yao1
1Department of Nuclear Physics, China Institute of Atomic Energy, Beijing 102413, China.
ACS applied materials & interfaces
|July 11, 2023
概括
中子深度分析 (NDP) 提供了一种新的高分辨率方法,用于准确测量纳米尺寸薄膜厚度. 这种非破坏性技术在铜薄膜中实现了不到1%的偏差,并且对多层石墨烯分析具有前景.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 物理 物理学 物理
背景情况:
- 精确确定薄膜材料的几何参数在科学研究中至关重要.
- 现有的纳米级薄膜厚度测量方法可能缺乏足够的分辨率或具有破坏性.
研究的目的:
- 引入和验证一种新的,高分辨率的,用于测量纳米尺寸薄膜厚度的非破坏性方法.
- 评估中子深度分析 (NDP) 的准确性和适用性,用于薄膜计量.
主要方法:
- 使用中子深度分析 (NDP) 来测量纳米铜 (Cu) 薄膜的厚度.
- 在石墨烯样本上进行模拟,以探索NDP在多层膜分析方面的潜力.
主要成果:
- 在纳米级Cu薄膜厚度测量中实现了高分辨率,达到1.78nm/keV.
- 与实际厚度相比,测量偏差小于1%的高精度被证明.
- 模拟表明NDP可用于确定多层石墨烯薄膜的厚度.
结论:
- 中子深度分析 (NDP) 是一种高精度和非破坏性的技术,用于纳米尺寸薄膜厚度的确定.
- NDP显示了对表征多层石墨烯等先进材料的巨大潜力.
- 拟议的方法为未来在薄膜计量学中的实验研究提供了可靠的基础.
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