一种CH3NH3PbI3薄膜矿的带隙压力系数

Agnieszka Pienia Żek1, Filip Dybała1, Maciej P Polak2

  • 1Department of Semiconductor Materials Engineering, Wroclaw University of Science and Technology, Wybrzeże Wyspiańskiego 27, 50-370 Wrocław, Poland.

概括

这项研究揭示了水静压如何影响甲基化 (MAPbI3) 矿的低温正压相. 带隙压力系数在很大程度上取决于温度,为矿材料特性提供了新的见解.