核和层封闭 通过原子层沉积生长的膜的行为
Hong Keun Chung1,2, Han Kim1,3, Jihoon Jeon1,3
1Electronic Materials Research Center, Korea Institute of Science and Technology, Seoul 02792, South Korea.
The journal of physical chemistry letters
|July 13, 2023
概括
(Ir) 薄膜的原子层沉积 (ALD) 显示,初始生长取决于温度和基板. 优化这些因素导致更密集,更小的纳米粒子,以获得更光滑,连续的超薄膜.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 表面科学是一门学科.
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 原子层沉积 (ALD) 对于创建用于先进应用的超薄膜至关重要.
- 了解ALD膜的初始核和生长机制是控制膜特性的关键.
- (Ir) 薄膜由于其独特的特性,对各种技术应用具有兴趣.
研究的目的:
- 为了研究原子层沉积 (ALD) (Ir) 膜的初始生长行为.
- 确定生长温度和基质表面如何影响孤立的Ir纳米颗粒的形成.
- 为了将初始生长特征与产生的超薄膜的连续性和表面粗性相关联.
主要方法:
- 使用特定的Ir前体 (tricarbonyl-(1,2,3-η)-1,2,3-tri(tert-butyl) -cyclopropenyl-iridium) 和O2.
- 生长温度和基质表面 (例如,Al2O3) 的系统变化.
- 在初始生长阶段分析纳米粒子密度,尺寸和膜形态.
主要成果:
- 在氧化物表面的初始生长阶段形成的孤立的Ir纳米粒子.
- 纳米粒子密度和大小受到生长温度和基质的显著影响.
- 更高的温度和Al2O3基板产生了更高密度,更小的纳米粒子,导致更薄,更光滑的连续膜.
结论:
- 膜的初始生长行为决定了表面粗度和膜的连续性.
- 通过温度和基质选择控制核和原子扩散是必不可少的.
- 为了制造高质量的,连续的超薄金属薄膜,需要对初始生长进行彻底的了解.
