蓝宝石的等离子诱导表面修饰及其对通过等离子增强化学蒸汽沉积生长的石墨烯的影响
Miguel Sinusia Lozano1, Ignacio Bernat-Montoya1, Todora Ivanova Angelova1
1Nanophotonics Technology Center (NTC), Universitat Politècnica de València, 46022 Valencia, Spain.
Nanomaterials (Basel, Switzerland)
|July 14, 2023
概括
蓝宝石基板的表面终结在增强等离子体化学蒸气沉积过程中显著影响石墨烯质量. 基终端表面产生的石墨烯缺陷较少,改善晶体性.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 表面科学是一门学科.
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 通过增强等离子体化学蒸汽沉积 (PECVD) 合成石墨烯对于先进的电子技术至关重要.
- 蓝宝石基板通常使用,但它们的表面终端可以影响石墨烯质量.
- 控制蓝宝石表面终结是优化石墨烯合成的关键.
研究的目的:
- 用PECVD研究c平面蓝宝石基质表面终端对石墨烯合成的影响.
- 了解等离子体过程参数如何影响蓝宝石表面终结.
- 为了将石墨烯缺陷类型和密度与特定的蓝宝石表面结尾相关联.
主要方法:
- 控制蓝宝石表面终端的等离子体工艺.
- 设计实验以优化等离子体参数 (功率,时间,压力,气体).
- 接触角度测量用于表面特征 (水友性/水性,Al/OH终结).
- 拉曼光谱用于石墨烯缺陷分析 (ID/IG比率).
主要成果:
- 确定了两种不同的蓝宝石表面终端 (Al终端和OH终端).
- 在OH终结的蓝宝石上生长的石墨烯的ID/IG比率较低,表明缺陷较少.
- 石墨烯的两个缺陷模式与空缺或边界状缺陷有关,取决于蓝宝石终结.
结论:
- 蓝宝石表面终结在PECVD过程中极大地影响了石墨烯缺陷密度和类型.
- OH终结的蓝宝石表面促进了高晶度石墨烯的合成.
- 定制蓝宝石表面终端为应用提供了一条提高石墨烯质量的途径.
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