电磁源成像可以预测患有焦点皮层发育不良的儿童手术的结果
Rupesh Kumar Chikara1, Saeed Jahromi1, Eleonora Tamilia2
1Jane and John Justin Institute for Mind Health, Neuroscience Research, Cook Children's Health Care System, Fort Worth, TX, USA; Department of Bioengineering, University of Texas at Arlington, Arlington, TX, USA.
概括
电磁源成像 (EMSI) 提供了卓越的准确性,精确地确定了因焦点皮质发育不良症 (FCD) 引起的耐药性 (DRE) 的儿童的发发作区域. 这种先进的技术改善了手术规划,并预测了与单个方法相比更好的结果.
科学领域:
- 神经科学是一个神经科学.
- 医疗成像医学成像
- 发病学 (Epileptology) 是一个专业的学科.
背景情况:
- 儿童的耐药性 (DRE),特别是由于焦点皮质发育不良 (FCD),存在重大管理挑战.
- 精确地定位发性焦点对于在儿科DRE中成功进行手术干预至关重要.
- 现有的源本地化技术对于复杂的儿科病例的精度可能有局限性.
研究的目的:
- 评估电磁源成像 (EMSI) 的诊断准确性,以定位儿科DRE的尖峰.
- 评估EMSI能够预测患有FCD相关DRE的儿童手术后果的能力.
- 将EMSI的性能与单个电源成像 (ESI) 和磁源成像 (MSI) 技术进行比较.
主要方法:
- 对23名患有FCD相关的DRE.的儿童的磁脑电图 (MEG) 和高密度电脑电图 (HD-EEG) 数据的回顾性分析.
- 使用等效电流双极 (ECD) 配件,双极聚类和动态统计参数映射 (dSPM) 应用到EMSI,ESI和MSI的尖端定位.
- 从发作区域 (DSOZ) 和切除 (DRES) 的距离计算,并使用与Youden指数 (J) 的接收器操作特征 (ROC) 曲线来预测结果.
主要成果:
- 与ESI和MSI相比,EMSI在使用二极管聚类时显示DSOZ和DRES显著较短 (p <0.05).
- 集群方法比ECD安装和dSPM更短的DSOZ和DRES.
- 与ESI (41.27%) 和MSI (33.33%) 进行聚类相比,EMSI在良好的外科结果方面取得了更高的预测性能 (尤登的J = 70.63%).
结论:
- 与单个ESI和MSI模式相比,EMSI提供了发病焦点的优越空间定位.
- 在患有FCD的儿科DRE患者中,EMSI显示了对手术结果的增强预测性能.
- EMSI是改善手术规划和在儿科中定位发性区域的宝贵工具.


