概括
石版系统中的振动会影响成像质量. 这项研究模拟了网状和晶圆阶段运动,以量化极端紫外线光刻画中的对比度和线边粗度的振动效应.
科学领域:
- 半导体制造业 半导体制造业
- 光学石版印刷是一种光学石版印刷.
- 纳米技术纳米技术
背景情况:
- 高速光刻系统经历不可避免的网状和晶圆阶段振动.
- 这些振动会对覆盖精度和成像质量产生负面影响.
- 集成电路中的微型化,特别是极紫外线 (EUV) 光刻,增加了对运动稳定性的需求.
研究的目的:
- 在先进的EUV光刻画中模拟振动下的网状和晶圆阶段运动.
- 研究振动振幅和频率对成像对比度和线边粗度 (LER) 的影响.
- 模拟关键结构的舞台振动和成像质量之间的定量关系.
主要方法:
- 开发了一种适用于EUV光刻的振动影响模型,用于网状和晶圆阶段运动.
- 分析了不同振动参数 (振幅,频率) 对成像性能的影响.
- 采用计算机模拟来评估穿线/空间,尖端到尖端 (T2T) 和尖端到线 (T2L) 结构的成像质量.
主要成果:
- 建立了振动特征和成像对比度退化之间的定量联系.
- 证明了振动参数与线边粗度 (LER) 的增加之间的相关性.
- 模拟结果显示,舞台振动对精细石版图案的真实性有显著影响.
结论:
- 振动控制对于在EUV光刻画中实现高分辨率成像至关重要.
- 了解振动效应对于流程优化和产量改善至关重要.
- 开发的模型提供了一个预测和减轻振动诱导成像缺陷的工具.
