在光子学中,从表征测量的过程变化推断
Optics express
|July 21, 2023
概括
本研究介绍了一种贝叶斯方法,在不需要相同的测试结构的情况下,绘制光子制造过程变化的过程变化. 这种方法有助于设计更高产量的光子电路.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 电气工程 电气工程
- 光学是什么?光学是什么?光学是什么?
背景情况:
- 制造光子集成电路 (PIC) 受到理解和量化工艺变化的挑战的阻碍.
- 准确地描述几何变化的特征对于实现高产量的PIC制造至关重要.
- 传统方法依赖于复制的测试结构,这可能是资源密集的.
研究的目的:
- 开发一种基于贝叶斯的新方法,用于推断光子学中的系统几何变化.
- 为了使变异分布可以提取,而不需要复制相同的测试结构.
- 为了促进有效的表征和研究工艺变异,以改善PIC设计.
主要方法:
- 开发了一个贝叶斯推理框架来分析表征数据.
- 该方法应用于具有不同设计参数的化环共振器.
- 系统的几何变化 (宽度,厚度,部分蚀刻深度) 被提取出来.
主要成果:
- 该方法成功推断了宽度 (28 nm std dev),厚度 (0.8 nm std dev) 和部分蚀刻深度 (3.8 nm std dev) 的分布.
- 创建了展示这些变化的分布的空间地图.
- 该方法在表征工艺变化的过程中表现出了效率.
结论:
- 开发的贝叶斯方法为研究光子学过程变异提供了一种高效的方法.
- 这种技术有助于理解几何变化的大小和空间分布.
- 这些发现将有助于未来设计高产光子电路.
