在从单一制造商重新植入耳后,电极阵列定位.

科学领域:

• 耳鼻喉科 耳鼻喉科 耳鼻喉科
• 神经外科 神经外科
• 生物医学工程 生物医学工程

背景情况:

• 耳植入是一种复杂的外科手术程序.
• 电极阵列的定位对于设备的有效性至关重要.
• 由于设备并发症或不理想的结果,可能需要修复性手术.

研究的目的:

• 在修复耳植入器手术后评估电极定位的变化.
• 评估修复手术对标尺位置,模态距离和角度插入深度的影响.
• 为了确定在修改过程中使用相同或不同的电极阵列风格是否会影响定位.

主要方法:

• 耳植入器数据库的回顾性分析.
• 术内CT扫描用于初始和修复植入.
• 应用自动细分技术来计算电极阵列位置.

主要成果:

• 修复手术后没有显著改变修饰距离或角度插入深度.
• 在初始植入后发生了三例从Scala Tympani到Scala Vestibuli的电极转移.
• 在修复手术后观察到另外五个转位,表明潜在的风险增加.

结论:

• 使用相同设备进行的耳植入器修复手术不会显著改变关键电极定位指示器.
• 修复手术允许对最初的电极错位进行潜在的纠正.
• 在修复手术期间,无论使用的电极阵列风格如何,电极转位的风险都增加了.