HfO₂薄膜的结构性,光学性,腐蚀性和机械性质的表征,这些薄膜使用脉冲直流磁力电离子喷射进行沉积

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 薄膜技术 薄膜技术
• 表面工程是什么?表面工程是什么?

背景情况:

• 氧化 (HfO2) 薄膜的特性高度依赖于沉积方法和条件.
• 通过反应磁铁喷射产生的HfO2薄膜的机械和腐蚀性能尚未得到广泛研究.

研究的目的:

• 为了比较在不同反应磁铁喷射条件下沉积的HfO2薄膜的机械和腐蚀性能.
• 为了研究等离子体点火方法 (连续与连续) 和目标基板距离对膜特性的影响.

主要方法:

• 使用反应磁铁喷射沉积HfO2薄膜,具有不同的等离子体点火和目标基板距离.
• 通过拉曼光谱和X射线衍射进行结构分析.
• 通过传导率和电流-电压测量来确定的光电子特性.
• 机械性能使用纳米缩和划痕测试进行评估.
• 通过伏特度曲线分析评估的耐腐蚀性.

主要成果:

• 通过连续喷过程沉积的HfO2薄膜与连续喷过程中的相比,显示出更强的耐腐蚀性.
• 连续工艺薄膜表现出更高的模量和抗划痕能力.
• 无论目标基质距离 (8厘米或12厘米) 如何,都观察到这些改善.

结论:

• 反应磁铁子喷射中的连续等离子点火方法产生具有优越的机械和耐腐蚀性HfO2薄膜.
• 由于其结合的抗腐蚀和抗划痕性能,HfO2显示出作为保护性涂层材料的潜力.