工程折射率对比在薄膜酸在绝缘体上的细膜酸
Yu Cao1, Haidong Liang2, Hong-Lin Lin1
1Department of Electrical and Computer Engineering, National University of Singapore, 4 Engineering Drive 3, Singapore 117583, Singapore.
Nano letters
|August 2, 2023
概括
研究人员开发了三种无蚀刻方法,用于在绝缘体上的酸波导,克服了传统蚀刻的局限性. 扩散实现了显著的折射率变化,使得先进的芯片内光学设备成为可能.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 光子学 是一个光子学.
- 纳米技术 纳米技术
背景情况:
- 在绝缘体上的酸 (BTO) 具有强大的电光特性和出色的光学封闭性.
- 制造波导装置需要为模式限制创建更高折射率区域.
- 传统的BTO干蚀刻方法导致表面粗,限制了深和设备性能.
研究的目的:
- 探索无蚀刻技术,在BTO中创建折射率对比度.
- 为了克服与BTO波导物理蚀刻相关的局限性.
- 为了使使用BTO制造先进的芯片内光学设备.
主要方法:
- 研究了三种无蚀刻方法:金属扩散,质子束辐射和结晶性控制.
- 利用扩散来改变BTO的折射率.
- 分析了由此产生的折射率变化及其对光学限制的影响.
主要成果:
- 在BTO.成功地展示了三种可行的无蚀刻方法,用于BTO.中的索引对比度.
- 用扩散的BTO显示了高达0.17的大幅折射率变化.
- 这些方法避免了干蚀刻固有的侧壁和表面粗性问题.
结论:
- 无蚀刻方法为制造BTO-on-insulator光学波导提供了一个有希望的替代方案.
- 展示的技术,特别是金属扩散,有助于创建高性能芯片上的光子设备.
- 这些方法的进一步开发可以导致新的集成BTO光学设备.
