O₃-对TiO₂/Al₂过器的蚀刻弹性的化效应,通过原子层沉积制备的O₃过器

科学领域:

• 材料科学 材料科学 材料科学
• 光学工程是指光学工程.
• 薄膜技术 薄膜技术

背景情况:

• 二氧化 (TiO2) /氧化 (Al2O3) 多层过器对于光电子设备至关重要.
• 通过原子层沉积 (ALD) 制造可以引入缺陷,如氧空缺.
• 优化光学和蚀刻特性对于设备的性能和可靠性至关重要.

研究的目的:

• 为了研究臭氧 (O3) 退火对TiO2/Al2O3多层带通波器的影响.
• 评估光学传导率和蚀刻特征的改进.
• 为了确定与现场ALD臭氧处理相比,O3回火的成本效益.

主要方法:

• 使用原子层沉积 (ALD) 制造TiO2/Al2O3多层带通波器.
• 在中等温度 (高达300°C) 下使用臭氧 (O3) 进行制造后回火处理.
• 分析光学特性 (透射率,光谱转移) 和蚀刻特征 (表面粗,均性).

主要成果:

• 臭氧回火使光学传导率增加约40%,光谱偏移最小 (∼6 nm).
• 通过填补氧气空缺,改善了TiO2静电测量,降低了灭绝系数.
• 增强湿蚀稳定性和高达8倍的均蚀刻表面.
• 臭氧回火过程的持续时间比现场ALD臭氧处理要短得多 (∼1.6小时).

结论:

• 臭氧回火是TiO2 / Al2O3多层过器的有效后处理.
• 它在光学性能和蚀刻稳定性方面提供了显著的改进.
• 这种方法为制造高性能光学涂层提供了成本高效和时间高效的替代方案.