环境稳定 2D Dion-Jacobson 阶段锡化 罗夫斯基特 场效应晶体管 移动性超过 1.6 Cm V-1 s-1
Xincan Qiu1,2,3,4, Jiangnan Xia1,3,4, Yu Liu1,3,4
1Changsha Semiconductor Technology and Application Innovation Research Institute, College of Semiconductors (College of Integrated Circuits), Hunan University, Changsha, 410082, China.
Advanced materials (Deerfield Beach, Fla.)
|August 21, 2023
概括
研究人员使用一种新的二维矿材料开发出稳定,高性能场效应晶体管 (FET). 这些晶体管具有出色的电气性能和耐用性,为先进的电子设备铺平了道路.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 电子工程 电子工程
- 固态物理 固态物理
背景情况:
- 溶液处理的金属化物矿为下一代场效应晶体管 (FET) 提供了前景.
- 不稳定性问题阻碍了基于矿的晶体管的实际应用.
- 开发稳定和高性能矿FET对于推进电子设备技术至关重要.
研究的目的:
- 报告环境稳定,高性能场效应晶体管 (FETs) 使用二维迪昂-雅各布逊相化矿.
- 提高矿道的薄膜质量和电气性能,以提高晶体管的性能.
- 为了证明开发的矿FET的操作和环境稳定性.
主要方法:
- 使用二维迪昂-雅各布逊相化矿矿 (BDASnI4) 制造FET.
- 在前体溶液中通过盐间层和NH4SCN添加剂进行工程薄膜结晶.
- 在环境条件下,设备性能的表征,包括场效应移动性和开/关比.
主要成果:
- 取得了高达1.61cm^2V^-1s^-1.1的场效应孔移动性.
- 证明了超过10^6.6的开/关比率.
- 展示了令人印象深刻的操作和环境稳定性,在45°C和45%湿度下在150小时后保持性能.
结论:
- 2D迪昂-雅各布逊相化氧化矿矿 BDASnI4 能够制造稳定和高性能的 FET.
- 工程膜结晶是实现具有优良电性质的高质量矿道的关键.
- 由于其增强的稳定性和性能,开发的矿FET显示出实际应用的巨大潜力.
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