超薄块共聚合物薄膜的直接打印,具有纳米-在-微型图案结构
Tae Wan Park1,2, Young Lim Kang2, Eun Bin Kang2
1Department of Materials Science and Engineering, Korea University, Seoul, 02841, Republic of Korea.
Advanced science (Weinheim, Baden-Wurttemberg, Germany)
|August 22, 2023
概括
本研究介绍了一种双纳米图案工艺,用于使用块共聚合物 (BCP) 薄膜创建20nm以下的结构. 这种热辅助纳米转移打印 (T-nTP) 方法可以为先进的电子设备提供精确的大面积复制.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术 纳米技术
- 表面科学是一门学科.
背景情况:
- 纳米转移打印 (nTP) 提供了电子设备中纳米到微型图案的潜力.
- 目前的nTP方法在20nm以下的模具技术,大面积复制和均材料转移方面面临挑战.
研究的目的:
- 展示一种新的双纳米制工艺,用于制造周期性20nm以下结构.
- 为了克服当前用于电子应用的纳米转移印刷技术的局限性.
主要方法:
- 采用了双纳米拼接工艺,涉及热辅助纳米转移打印 (T-nTP).
- 包含的块共聚合物 (BCP) 薄膜的雇员指导自组装 (DSA).
- 从Si模具转移图案的超薄BCP薄膜 (<50nm) 到各种基板.
主要成果:
- 在八英寸晶圆上成功创建了周期性20nm以下结构.
- 通过控制BCP自组装和打印温度,通过控制BCP自组装和打印温度,实现了有序的20nm以下SiOx模式.
- 在使用T-nTP的大面积上展示了多种复杂的纳米-在-微型图案 (线,环,点).
结论:
- 开发的BCP复制纳米模式技术有效地解决了nTP的关键挑战.
- 这种先进的方法适用于复杂的纳米至微电子设备的纳米制造.
- 该过程显示了下一代电子产品中可扩展和精确的纳米模式的前景.
