对于发射在绿色光谱范围内的GaN-(In,Ga) N核心外纳米线的分子束表的生长机制
David van Treeck1, Jonas Lähnemann1, Oliver Brandt1
1Paul-Drude-Institut für Festkörperelektronik, Leibniz-Institut im Forschungsverbund Berlin e.V., Hausvogteiplatz 5-7, D-10117 Berlin, Germany.
Nanotechnology
|August 25, 2023
概括
我们在化 (GaN) 核心纳米线周围生长了绿色发射的化 (In,Ga) N外,使用分子束表观. 一个新的模型优化了合并以获得均的外厚度,这对于光电子应用至关重要.
科学领域:
- 材料科学 材料科学 材料科学
- 纳米技术纳米技术
- 半导体物理 半导体物理
背景情况:
- 化 (GaN) 和相关合金是光电子学的关键材料.
- 在纳米结构中实现统一的组成和形态是具有挑战性的.
- 在 (In,Ga) N中加入对于调整排放波长至关重要.
研究的目的:
- 在GaN核心纳米线上生长 (In,Ga) N外,用于发射绿色光.
- 开发一个增长模型来优化外属性.
- 调查生长参数对形态和组成的影响.
主要方法:
- 在GaN纳米线上 (In,Ga) N外生长的分子束表 (MBE).
- 在化 (TiN) 基板上GaN纳米线的自组增长.
- 分析生长参数,包括V/III和In/Ga流量比,旋转速度和方向.
主要成果:
- 在35nm直径的GaN核心纳米线上成功生长 (In,Ga) N外,发射在绿色光谱范围内.
- 开发一种定性生长模型,解释3D纳米结构的生长和流量方向性.
- 优化In的结合,以获得均的外厚度,其中作为表面活性剂.
结论:
- 开发的模型可以优化 (In,Ga) N 贝生长条件.
- 同质 (In,Ga) N外与二元 GaN外相比,具有更好的厚度均性.
- 这项工作推动了为光电子设备制造均的化物基纳米结构的制造.
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